CMP全称为Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光，是半导体晶片表面加工的关键技术之一。…

「上海新安纳」浙江新创纳电子科技有限公司研发生产的集成电路抛光液，经历了多代升级，目前已经用于多家半导体公司。…

「上海新安纳」浙江新创纳是一家专注于研发高端硅溶胶、CMP抛光液及其生产和销售公司，在CMP抛光液和抛光技术方面已申请并获得发明专利两百余项，广泛应用于半导体、抛光等行业，年产能一万多吨。…

「上海新安纳」浙江新创纳电子科技有限公司专注于研发销售高端硅溶胶，常年提供改性硅溶胶、55%高浓度高固含硅溶胶、催化用硅溶胶、高纯硅溶胶等产品，硅溶胶的研发项目由一支高素质、高学历、具有创新精神的团队不断完善发展，至今已申请并获得了数项发明专利，品质值得信赖，是很好的选择。…

要制备高浓度低粘度的稳定硅溶胶，我的体会是一定要扩大硅溶胶的粒径，否则SiO2含量到26%以上就要凝胶。