专注CMP抛光液20+

核心磨料自研自产


抛光液
硅片粗抛液、中抛液以及边抛液

浙江新创纳自主研发、生产的硅片粗抛液、中抛液、边抛液,采用高纯硅溶胶为料,核心材料自主生产,产品在国内各大晶圆厂已批量使用,成功替代Fujimi、Dow、Cabot等进口品牌。

性能指标

硅片粗抛液 SW-2010-H-V1

速率 ≥0.8μm/min,表面Ra≤0.5nm


硅片边抛液 SE-1001

速率 ≥0.3μm/min ,表面Ra≤0.3nm


硅片中抛液 SM-102

速率 ≥0.4μm/min ,表面Ra≤0.3nm





包装方式

1、包装方式:25KG、250KG


2、保存条件:贮存温度为5-40℃