抛光液
硅片精抛液
浙江新创纳自主开发出应用于8寸和12寸硅晶圆使用的精抛液。产品采用超高纯硅溶胶为原料,金属离子达到ppb级,满足晶圆加工对表面和残留颗粒的要求,已在客户端验证通过且批量供应。
专注CMP抛光液20+年
核心磨料自研自产
浙江新创纳自主开发出应用于8寸和12寸硅晶圆使用的精抛液。产品采用超高纯硅溶胶为原料,金属离子达到ppb级,满足晶圆加工对表面和残留颗粒的要求,已在客户端验证通过且批量供应。
精抛液SJ-216(8寸)
➢抛光清洗后硅片表面金属残留均小于5E8 atoms/cm2
表面质量:Ra<0.2nm 颗粒<4颗(0.1μm)
稀释比:1:20
纯度:Na≤1000ppb,Mg≤50ppb,Al≤50ppb,K≤100ppb,Ca≤100ppb,Mn≤50ppb,Ti≤50ppb,Fe≤50ppb,Cr≤50ppb,Ni≤10ppb,Cu≤10ppb,Zn≤50ppb,Ag≤50ppb,Pb≤50ppb
精抛液SJ-221(12寸)
➢抛光清洗后硅片表面金属残留均小于2E8 atoms/cm2
表面质量:Ra<0.2nm 颗粒平均5颗(26nm)
稀释比:1:20
纯度:Na≤1000ppb,Mg≤50ppb,Al≤50ppb,K≤100ppb,Ca≤100ppb,Mn≤50ppb,Ti≤50ppb,Fe≤50ppb,Cr≤50ppb,Ni≤10ppb,Cu≤10ppb,Zn≤50ppb,Ag≤50ppb,Pb≤50ppb
1、包装方式:20KG、200KG
2、保存条件:贮存温度为5-40℃